TRCX：掺杂过程分析

在 LTPS 制造过程中使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容并分析有源层离子注入前后的电位分布如下图所示。(a)FIB(b) 掺杂前后对比